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半导体行业废水处理实例与效果分析

发布时间:2024-11-13人气:81

    在全球半导体行业蓬勃发展的背景下,制造过程中产生的废水处理问题逐渐显现出其重要性。尤其是晶圆研磨与切割过程中产生的废水,其成分复杂,处理难度大,不仅对环境造成威胁,还可能影响企业的生产效率。近日,针对这一难题的半导体晶圆研磨废水处理方案引发了广泛关注,成为行业内外热议的焦点。晶圆研磨废水主要包含颗粒物、化学物质及有机成分,这些成分如果不加以有效处理,可能会对水资源造成不可逆转的污染。当前,处理这一类废水的传统方法往往效率低下、成本高昂,且处理后水质难以达到再利用的标准。因此,开发一种高效、经济、可持续的废水处理方案迫在眉睫。

关键技术和特性

        本次提出的处理方案综合了物理、化学及生物处理技术。首先,利用先进的膜分离技术,对废水进行初步的物理去除,能够有效截留大颗粒物质。同时,结合化学沉淀和活性污泥法,通过添加特定的化学药剂,将水中难以处理的污染物转化为沉淀物,进一步提高处理效率。此外,生物处理技术提供了自然降解的解决方案,增加了废水处理的生态友好性。

创新设计与用户体验

        该方案的一大亮点是采用了可持续性设计理念,确保了处理系统的能耗低及运营成本控制在合理范围内。通过智能化监控系统,实时监测废水成分和处理效果,企业可以根据实时数据调整处理内容,提高系统的灵活性和适应性。此外,模块化设计使得处理系统的维护和升级变得更加便捷,降低了对专业技术人员的依赖,增强了企业的操作安全性。

行业应用与前景展望

        在实际应用方面,多家半导体工厂已开始尝试该处理方案,结果表明,处理后的废水得到了显著改善,能够满足再利用标准。这不仅降低了企业的用水成本,也有效减轻了对环境的影响,展现了经济与环境的双重获益。随着技术的持续迭代,未来该方案有望推广至更广泛的行业,成为半导体、电子及其他制造行业的环保标杆。

表1 设计进出水水质

项目

设计进水水质

设计出水水质

BOD5/(mg·L-1

≤250

≤10

COD/(mg·L-1

≤400

≤50

悬浮物/(mg·L-1

≤250

≤10

TN/(mg·L-1

≤45

≤15

NH4+-N/(mg·L-1

≤40

≤5

TP/(mg·L-1

≤5

≤0.5

氟化物/(mg·L-1

≤20

≤2

石油类/(mg·L-1

15

1

pH

6~9

6~9


1.2 设计思路及工艺路线

污水处理厂进水主要有含氟废水、含氨废水和有机废水,具有可生化性差、C/N低的特点,同时清洗废水中还含有少量石油类油脂,进入生化系统会抑制微生物活性。目前国内60%以上的污水处理厂采用A2/O工艺脱氮除磷,但对于低C/N污水,传统A2/O工艺主要依靠污泥回流及硝化液回流去除硝态氮,好氧池出水总氮理论上不能完全被去除,在实际运行中存在污泥龄矛盾和碳源竞争,脱氮除磷效率不高。而A2/O与MBR组合工艺具有出水水质稳定、污染物去除率高、能解决脱氮除磷时二者污泥龄不同的矛盾等优势,被广泛应用于国内外污水处理中。

针对废水特点,污水处理厂预处理段采用曝气沉砂池重点去除废水中的砂类和油脂,采用高效沉淀池重点去除废水中的氟化物;主体工艺采用A2/O+MBR工艺,提高活性污泥微生物浓度和活性,使可生化性差、C/N低的废水处理达标后排放,并在A2/O和MBR中间增加后置缺氧池等改良措施,从理论上提高工艺的脱氮效率。

整体废水处理工艺流程见图1。


图片

图1 废水处理工艺流程


废水处理工艺可分为预处理区(粗格栅池至精细格栅池)、生化处理区及后续消毒区。预处理区采用粗、细格栅双层拦截,可有效去除进水中粒径较大的悬浮物。细格栅出水进入曝气沉砂池,由于流速变小,剩余砂粒在涡旋运动和重力作用下逐渐沉降到集砂池,通过吸砂机吸出;同时,池底布置的穿孔曝气管产生大量微小气泡附着在废水中的油粒表面,油粒自身浮力增大后逐渐上升,漂浮在水面便于油水分离,可有效去除废水中的油类、砂粒等污染物。

曝气沉砂池出水进入高效沉淀池,高效沉淀池前端设置凝聚池和絮凝池,分别投加PAC和PAM,后端设置沉淀池进行泥水分离,可将废水中的悬浮物、氟化物、TP及重金属等污染物有效去除,保证后续生化反应的稳定运行。

预处理区末端还设置精细格栅池,可去除粒径在1 mm以上的悬浮物,有效延缓后续MBR池中膜组件污染。

生化处理区采用改良型A2/O和MBR的结合工艺。废水进入生化处理区后,依次进入厌氧池、缺氧池1、好氧池、缺氧池2和MBR池。

MBR池池底设置污泥回流管将污泥回流至厌氧池,好氧池设置硝化液回流管将硝化液回流至缺氧池。MBR池由于NO3--N极少,污泥回流后厌氧池内NO3--N浓度较低,减少了对聚磷菌的抑制作用,保证了聚磷菌的释磷效果,废水进入MBR池后,在好氧条件下聚磷菌重新吸收磷,TP随剩余污泥排放去除。

废水中的NH4+-N在好氧池完成硝化反应,转化为NO3--N,随后通过硝化液回流至缺氧池1,利用进水中的碳源,在反硝化菌作用下生成N2排出;为进一步去除废水中的NO3--N,好氧池出水进入缺氧池2再次进行反硝化反应,保证出水TN达标。由于废水中COD在好氧池内消耗殆尽,需向缺氧池2补充适量碳源。

改良型A2/O池出水进入MBR池,利用膜组件的高效截留作用进行泥水分离,同时有效截留大分子有机物。膜组件的高效截留作用可实现SRT(污泥停留时间)与HRT(水力停留时间)的彻底分离,使硝化细菌得以富集并成为优势菌种,硝化能力逐渐增强。

MBR池出水进入接触消毒池,通过次氯酸钠溶液消毒,保证出水中微生物含量降低至标准水平以下。最后,废水通过巴氏计量槽计量后直接排放至周围河道。




2 主要构筑物及设计参数


2.1 粗格栅及提升泵房

粗格栅及提升泵房1座,设计规模按5万m3/d,钢筋混凝土结构,其中粗格栅池总尺寸12.7 m×4.0 m×9.3 m,分2组,提升泵房尺寸10.7 m×8.0 m×9.3 m。

配套机械格栅2台,栅宽B=1 580 mm,栅隙b=20 mm,N=1.5 kW;栅渣输送机1台,B=500 mm,N=1.5 kW;潜污泵5台,Q=800 m3/h,H=15 m,N=55 kW;电动葫芦1套,G=2 t,提升高度16 m,N=0.8 kW。

2.2 细格栅及曝气沉砂池

细格栅及曝气沉砂池1座,设计规模按5万m3/d,钢筋混凝土结构,其中细格栅池总尺寸8.3 m×4.6 m×1.70 m,曝气沉砂池尺寸27 m×9.2 m×5.6 m,分2组,曝气沉砂池总有效容积约520 m3,HRT约15 min。

配套机械格栅2台,栅宽B=2.0 m,栅隙b=5 mm,N=1.5 kW;栅渣输送机1台,B=500 mm,N=1.5 kW;桥式吸砂机2台,单台跨距L=4.3 m,N=4 kW;砂水分离器1台,Q=12~20 L/s,N=0.37 kW;罗茨鼓风机2台,Q=30 m3/min,N=30 kW,P=34.5 kPa,1用1备。

2.3 高效沉淀池

高效沉淀池2座,单座设计规模按2.5万m3/d,钢筋混凝土结构。单座高效沉淀池中混凝池尺寸2.8 m×2.8 m×7.7 m,有效容积约51 m3,HRT约3.0 min;

絮凝池分2组,单组尺寸4.5 m×4.0 m×7.4 m,总有效容积约230 m3,HRT约13 min;沉淀池分2组,单组内径D=9 m,总高度H=7.4 m,表面负荷q=8.2 m3/(m2·h),沉淀时间约30 min,污泥回流量约300%。

单座高效沉淀池配套混合搅拌机1台,N=11.0 kW;絮凝搅拌机2台,直径D=1.2 m,N=2.2 kW;污泥回流泵4台,Q=41 m3/h,H=20 m,N=7.5 kW,2用2备。

2.4 精细格栅池

精细格栅池1座,设计规模按5万m3/d,钢筋混凝土结构,总尺寸13.7 m×4.6 m×4.0 m,分2组。配套内进流式孔板精细格栅2台,栅宽B=2 m,栅隙b=1 mm,N=2.2 kW;栅渣清洗压榨机槽宽b=350 mm,P=2.2 kW,排渣高度1.6 m,配备1套恒高压冲洗系统。

2.5 改良型A2/O及MBR池

改良型A2/O及MBR池共2座,单座设计规模按2.5万m3/d,钢筋混凝土结构,总尺寸147.0 m×37.5 m×5.2 m。单座改良型A2/O及MBR池包括厌氧池、缺氧池1、好氧池、缺氧池2及MBR池,有效容积分别为1 550、4 000、12 230、2 890、800 m3,HRT分别为1.5、3.8、11.7、2.8、0.8 h。单座配套硝化液回流泵3台,Q=724 L/s,H=0.8 m,N=15 kW,2用1备;产水泵6台,Q=334 m3/h,H=10 m,N=15 kW;剩余污泥泵2台,Q=35 m3/h,H=16 m,N=3.7 kW;PVDF中空纤维内衬膜膜组器25组,单组平均产水量1 000 m3/d。

2.6 接触消毒池

接触消毒池1座,设计规模按5万m3/d,钢筋混凝土结构,总尺寸16.7 m×24.5 m×3.5 m,有效容积约1 415 m3,HRT约30 min。




3 运行效果及成本分析


3.1 运行效果

目前,污水处理厂经调试后投产运营,运营前5个月改良型A2/O及MBR池MLSS稳定在3 000 mg/L,好氧池DO稳定在2 mg/L,污泥龄约20 d,污泥回流比和硝化液回流比分别为100%和300%,出水水质稳定达到GB 18918—2002一级A类标准。


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